2011年度(平成23年度)レジデンス
[2017年4月20日]
[2017年4月20日]
招へい者(敬称略)
ラケシュ・バニ(インド)
根 岸 一 成(日 本)
山 成 景 子(日 本)
左から 山成景子、根岸一成、ラケシュ・バニ
エッチング(Etching)
78×106cm
エッチング(Etching)、アクアチント(Aquatint)
78×53cm
エッチング(Etching)、アクアチント(Aquatint)
78×53cm
リトグラフ(Lithograph )
99×68cm
リトグラフ(Lithograph )
45×75cm
リトグラフ(Lithograph )
29×24cm
エッチング(Etching)、アクアチント(Aquatint)
106×78cm
エッチング(Etching)、アクアチント(Aquatint)
42×35cm
エッチング(Etching)、アクアチント(Aquatint)、ドライポイント(Drypoint)
42×35cm
エッチング(Etching)、アクアチント(Aquatint)、ドライポイント(Drypoint)
42×35cm
エッチング(Etching)、アクアチント(Aquatint)、ドライポイント(Drypoint)
42×35cm
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