2011年度（平成23年度）レジデンス
[2017年4月20日]
[2017年4月20日]
招へい者（敬称略）
ラケシュ・バニ（インド）
根 岸 一 成（日 本）
山 成 景 子（日 本）
左から 山成景子、根岸一成、ラケシュ・バニ
エッチング（Etching）
78×106cm
エッチング（Etching）、アクアチント（Aquatint）
78×53cm
エッチング（Etching）、アクアチント（Aquatint）
78×53cm
リトグラフ（Lithograph ）
99×68cm
リトグラフ（Lithograph ）
45×75cm
リトグラフ（Lithograph ）
29×24cm
エッチング（Etching）、アクアチント（Aquatint）
106×78cm
エッチング（Etching）、アクアチント（Aquatint）
42×35cm
エッチング（Etching）、アクアチント（Aquatint）、ドライポイント（Drypoint）
42×35cm
エッチング（Etching）、アクアチント（Aquatint）、ドライポイント（Drypoint）
42×35cm
エッチング（Etching）、アクアチント（Aquatint）、ドライポイント（Drypoint）
42×35cm
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