2004年度（平成16年度）レジデンス
[2017年4月20日]
[2017年4月20日]
●主催
あきる野市
●運営
アートスタジオ五日市運営委員会
●招へい期間
2004年9月1日～11月30日
●招へい者（敬称略）
アーロンクマールチャタジー（インド）
重野 克明
和田 ときわ
36×29cm(額47.5×37cm)
木版〔wood〕
36×29cm(額47.5×37cm)
木版〔wood〕
36×29cm(額47.5×37cm)
木版〔wood〕
21.8×18.8cm(額44×35cm)
エッチング、和紙に雁皮紙刷
13×12cm(額32×25cm)
エングレーヴィング、ドライポイント、和紙に雁皮紙刷
10.5×12.6cm(額31.5×25.5cm)
エッチング、ドライポイント、和紙に雁皮紙刷
99×73cm(額117×91.5cm)
リトグラフ〔Lithograph〕
99×73cm(額117×91.5cm)
リトグラフ〔Lithograph〕
99×73cm(額117×91.5cm)
リトグラフ〔Lithograph〕
2004年度（平成16年度）レジデンスへの別ルート
